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【無錫冠亞】循環熱水系統 高低溫氣流儀TES，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

【無錫冠亞】循環加熱設備 半導體制冷系統，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

【無錫冠亞】循環加熱器 半導體用溫控設備，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

【無錫冠亞】溫控加熱器 半導體溫控設備TES，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

【無錫冠亞】半導體晶圓快速冷卻系統 芯片散熱水冷機，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制，40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵，經過24小時連續運行拷機。

【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環裝置，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制，40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵，經過24小時連續運行拷機。